Эпитаксиаль (үсеш)Катнаш Гаs
Ярымүткәргечләр сәнәгатендә, җентекләп сайланган субстратка химик пар белән бер яки берничә катлам материал үстерү өчен кулланыла торган газ эпитаксиаль газ дип атала.
Еш кулланыла торган кремний эпитаксиаль газларына дихлорсилан, кремний тетрахлориды һәмсиланНигездә, эпитаксиаль кремний утырту, кремний оксиды пленка утырту, кремний нитриды пленка утырту, кояш батареялары һәм башка фоторецепторлар өчен аморф кремний пленка утырту һ.б. өчен кулланыла. Эпитакси - монокристалл материалны субстрат өслегенә утырту һәм үстерү процессы.
Химик пар утырту (CVD) катнаш газ
CVD - очучан кушылмалар кулланып, газ фазасындагы химик реакцияләр ярдәмендә билгеле бер элементларны һәм кушылмаларны урнаштыру ысулы, ягъни газ фазасындагы химик реакцияләр кулланып пленка формалаштыру ысулы. Формалашкан пленка төренә карап, кулланылган химик пар утырту (CVD) газы да төрлечә була.
ДопингКатнаш газ
Ярымүткәргеч җайланмалар һәм интеграль микросхемалар җитештерүдә, билгеле бер катнашмалар ярымүткәргеч материалларга кушыла, бу аларга кирәкле үткәрүчәнлек төрен һәм билгеле бер каршылык бирү өчен кулланыла, резисторлар, PN тоташулары, күмелгән катламнар һ.б. җитештерү өчен кулланыла. Легирлау процессында кулланыла торган газ легирлау газы дип атала.
Нигездә, арсин, фосфин, фосфор трифториды, фосфор пентафториды, мышьяк трифториды, мышьяк пентафториды,бор трифториды, диборан һ.б.
Гадәттә, легирлау чыганагы чыганак шкафында ташучы газ (мәсәлән, аргон һәм азот) белән кушыла. Катнаштырганнан соң, газ агымы диффузион мичкә өзлексез кертелә һәм пластинаны әйләндереп ала, пластина өслегенә легирлау матдәләрен урнаштыра, аннары кремний белән реакциягә кереп, легирланган металлар барлыкка китерә, алар кремнийга күчә.
ГрафурацияГаз катнашмасы
Гравюра ясау - субстраттагы эшкәртү өслеген (мәсәлән, металл пленка, кремний оксиды пленкасы һ.б.) фоторезист маскасын кулланмыйча гравюралау, шул ук вакытта субстрат өслегендә кирәкле сурәтләү үрнәген алу өчен фоторезист маскасын кулланып саклану.
Овуляция ысулларына дымлы химик охыт һәм коры химик охыт керә. Коры химик охытуда кулланыла торган газ охыт газы дип атала.
Эшкәртү газы гадәттә фтор газы (галогенид) була, мәсәләнуглерод тетрафториды, азот трифториды, трифторметан, гексафторэтан, перфторпропан һ.б.
Бастырып чыгару вакыты: 2024 елның 22 ноябре





