Карбон Тетрафлорид (CF4)

Кыска тасвирлау:

Углерод тетрафлуорид, шулай ук ​​тетрафлорометан дип атала, гадәти температурада һәм басымда төссез газ, суда эри алмый. CF4 газы хәзерге вакытта микроэлектроника өлкәсендә иң киң кулланыла торган плазмалы газ. Ул шулай ук ​​лазер газы, криоген суыткыч, эретүче, майлау, изоляцион материал һәм инфракызыл детектор торбалары өчен суыткыч буларак кулланыла.


Продукциянең детальләре

Продукция тэглары

Техник параметрлар

Спецификация 99,999%
Кислород + Аргон ≤1ppm
Азот ≤4 ppm
Дым (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0.1 ppm
CO ≤0.1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Халокарбинс ≤1 ppm
Гомуми бозулар ≤10 ppm

Углерод тетрафлуорид - CF4 химик формуласы белән галогенлаштырылган углеводород. Аны галогенлаштырылган углеводород, галогенат метан, парфлюорокарбон яки органик булмаган кушылма дип санарга мөмкин. Углерод тетрафлуорид - төссез һәм иссез газ, суда эри алмый, бензолда һәм хлороформада эри. Нормаль температура һәм басым астында тотрыклы, көчле оксидантлардан, янып торган яки янып торган материаллардан сакланыгыз. Янмый торган газ, контейнерның эчке басымы югары эсселектә көчәячәк, һәм ярылу һәм шартлау куркынычы бар. Ул химик яктан тотрыклы һәм янмый. Бүлмә температурасында сыек аммиак-натрий металл реагенты гына эшли ала. Углерод тетрафлуорид - теплица эффектын китерә торган газ. Ул бик тотрыклы, атмосферада озак торырга мөмкин, һәм бик көчле парник газы. Карбон тетрафлуорид төрле интеграль схемаларның плазма эшкәртү процессында кулланыла. Ул шулай ук ​​лазер газы буларак кулланыла, һәм түбән температуралы суыткычларда, эреткечләрдә, майлау материалларында, изоляцион материалларда, инфракызыл детекторлар өчен суыткычларда кулланыла. Бу микроэлектроника тармагында иң күп кулланыла торган плазмалы газ. Бу тетрафлуорометан югары чисталык газы һәм тетрафлорометан югары чисталык газы һәм югары чисталыклы кислород катнашмасы. Ул кремний, кремний диоксиды, кремний нитриды һәм фосфосилик пыялада киң кулланылырга мөмкин. Вольфрам һәм вольфрам кебек нечкә пленка материалларын чистарту шулай ук ​​электрон җайланмаларны өстән чистартуда, кояш күзәнәкләрен җитештерү, лазер технологиясе, түбән температуралы суыткыч, агып чыккан инспекция һәм басма схема җитештерүдә юу юлы белән киң кулланыла. Интеграль схемалар өчен түбән температуралы суыткыч һәм плазма коры эшкәртү технологиясе буларак кулланыла. Саклау өчен саклык чаралары: Салкын, җилләтелгән янмый торган газ складында саклагыз. Ут һәм җылылык чыганакларыннан ерак торыгыз. Саклау температурасы 30 ° Cтан артмаска тиеш. Аны җиңел (янып торган) янучан һәм оксидантлардан аерым сакларга, катнаш саклагычлардан сакларга кирәк. Саклау мәйданы агып чыккан ашыгыч ярдәм җиһазлары белән җиһазландырылган булырга тиеш.

Кушымта:

① Суыткыч:

Тетрафлуорометан кайвакыт түбән температурада суыткыч буларак кулланыла.

  fdrgr грег

② Эшләү:

Ул электроника микрофабрикасында яки кислород белән берлектә кремний, кремний диоксиды һәм кремний нитриды өчен плазма этанты буларак кулланыла.

dsgre rgg

Нормаль пакет:

Продукция Карбон ТетрафлоридCF4
Пакет күләме 40Лтр цилиндр 50Лтр цилиндр  
Чиста авырлыкны тутыру / ylил 30Кг 38Кг  
QTY 20'Контейнерда йөкләнгән 250 цил 250 цил
Гомуми чиста авырлык 7.5 тонна 9.5 тонна
Ylилиндр авырлыгы 50Кг 55Кг
Клапан CGA 580

Өстенлеге:

Ighгары чисталык, соңгы корылма;

②ISO сертификат җитештерүче;

- Тиз китерү;

Every everyәр адымда сыйфат контроле өчен бер-бер артлы анализ системасы;

Sil тутырылганчы цилиндр эшкәртү өчен югары таләп һәм җентекле процесс;


  • Алдагы:
  • Киләсе:

  • Хәбәрегезне монда языгыз һәм безгә җибәрегез